9月28日(水) 13:00〜15:40

NP-04【ナノインプリント展 特別セミナー】

企画・進行

松井 真二
兵庫県立大学
高度産業科学技術研究所
特任教授

プロフィール

1981年3月 大阪大学大学院基礎工学研究科博士課程終了 工学博士
1981年4月 日本電気(株)入社
1997年11月 兵庫県立大学高度産業科学技術研究所 教授
2016年4月 兵庫県立大学高度産業科学技術研究所 特任教授
現在にいたる  
13:00〜13:05

開催のごあいさつ

本セミナーではナノインプリントの装置、材料、金型・テンプレート委託加工、応用デバイス等のメーカーからら最新の研究開発成果を報告する。
セミナーに先立ち、実用化するにあたってのこれからの業界全体のロードマップや人材育成や試作体制の強化について概観する。

企画・講師

前田 龍太郎
(国研)産業技術総合研究所
エレクトロニクス製造・領域研究戦略部
上席イノベーションコーディネータ

プロフィール

1980年 東京大学大学院工学系研究科修士課程修了
通産省工業技術院機械技術研究所に入所
1984-85年 フランスCNRS研究センター客員研究員
1989-90年 工業技術院研究開発官室 併任
2010年 産総研 集積マイクロシステム研究センター センター長

2015年より現職

NEDO「グリーンセンサネットワーク」プロジェクトリーダ、最先端プロジェクト「マイクロシステム融合」共同提案者。立命館大学、千葉工業大学連携大学院教授、東京大学教授(委嘱)、上海交通大学客員教授、各種国際会議の運営委員等を歴任。

13:05〜13:25

ナノインプリントと応用デバイスの研究

リソグラフィー技術の根幹となるナノインプリント技術とMEMSを組合わせ、μTAS、LED光取出しの高効率、Ⅲ-Ⅴ族基板の結晶成長、3次元エレクトロニクス実装等へ応用した例を紹介する

講 師

水野 潤
早稲田大学
教授

プロフィール

BOSCH入社後、自動車の燃料噴射系部品に関して研究開発
表面活性化と低温接合技術を融合したエレクトロニクス実装技術の研究
早稲田大学入校、現在、早稲田大学ナノ・ライフ創新研究機構 教授
九州大学分子システムデバイス国際リーダ教育センター 客員教授兼任
専門はデバイス科学、ナノ・マイクロ微細加工学
表面活性化と低温接合技術を融合したエレクトロニクス実装技術の研究

13:25〜13:45

フレキシブルエレクトロニクスの最新動向

IoT社会の普及に向け、近年フレキシブルエレクトロニクスへの関心が高まっている。本講演では、フレキシブルデバイスの高生産性製造に期待の高いフレキシブル/プリンテッドエレクトロニクス技術の現状と展望について紹介する。

講 師

鎌田 俊英
(国研)産業技術総合研究所
フレキシブルエレクトロニクス研究センター
研究センター長

プロフィール

1990年 京都大学大学院理学研究科博士課程修了 理学博士。
1992年 通商産業省工業技術院化学技術研究所(現産業技術総合研究所)入所。
2011年 産業技術総合研究所フレキシブルエレクトロニクス研究センター長 現在に至る。ディスプレイ、センサー、フレキシブルエレクトロニクス、プリンテッドエレクトロニクス等にかかる研究開発に従事。

14:00〜14:20

熱・光ナノインプリント技術の銅/ポリイミド配線作製技術への適用

近年、MEMSデバイスと異種デバイスの高集積化を実現するための実装配線基盤の作製において銅/ポリイミド再配線パターンの微細化への要望が高まっている。本講演では、可溶性ブロック共重合ポリイミドを用いる熱・光インプリント技術やその銅/ポリイミド積層配線作製への適用等について述べる。

講 師

尹 成圓
(国研)産業技術総合研究所
集積マイクロシステム研究センター
ウエハレベル実装 研究チーム
主任研究員

プロフィール

2005年、産業技術総合研究所に入所。
入所以来光、熱ナノインプリント技術やMEMS実装技術の研究開発等に従事。
現在は、インプリント技術の実装応用を目ざしたプロセスやモールド設計技術の開発に従事。

14:20〜14:40

ナノインプリント技術とバイオミメティクスへの展開

ナノインプリント技術は微細な構造を基板上に容易に形成できるナノ加工技術である。アプリケーション開発には構造が発現する機能が重要となる。機能発現に適した構造を工学的に設計することは人間の発想の枠内に留まるため,斬新な機能発現構造を考案することは難しい。本公演では機能発現構造を生物の体表構造に求めるバイオミメティクス,特にバイオミメティクデザインに関して述べる。

講 師

宮内 昭浩
(株)日立製作所
研究開発グループ
材料イノベーションセンタ
主管研究員
工学博士

プロフィール

1986年4月 (株)日立製作所 日立研究所 入社
1986年4月〜1995年9月 化学気相成長(CVD)法によるシリコン薄膜の選択成長技術の研究
1995年10月〜1996年9月 Massachusetts Institute of Technology (MIT)客員研究員,SiC薄膜の低温成長の研究
1996年10月~1999年3月 気相と表面での化学反応を組み込んだCVDシミュレーション技術の研究
1999年4月~現在 ナノインプリント技術の研究と応用
2010年10月~現在 東京大学大学院工学系研究科 非常勤講師
2012年4月~現在 東バイオミメティクス研究

15:00〜15:20

UVナノインプリント装置

産業技術総合研究所の保有特許である凝縮性ガスを使用したレジストの高速充填と低残膜化を共同開発にてUV-NILステッパーを開発し現在は光導波路形成ナノインプリント技術を開発中である。近年FPD業界から注目されている独自開発となる大面積インプリント装置を紹介する。

講 師

犬塚 善樹
(株)三明
精機事業推進室

プロフィール

ウェハ計測周辺技術としてプローブカードやウェハプローバーの開発営業として半導体、電子部品分野にてワーク搬送を含めた自動テストシステムの開発を行う。
2005年以降、マスクアライナー、スプレーコータ―等のフォトリソプロセス装置を開発し、2007年からは産業技術総合研究所とUVナノインプリント装置の開発しアライメント技術、転写技術の開発に従事。

15:20~15:40

ナノインプリント用モールドへの取組み「Soken Mold Solution」

綜研化学では、ナノインプリント用モールドの課題を解決すべく「Soken Mold Solution」を展開しております。具体的には、R&Dから量産まで使用頂けるフィルムモールド「FleFimo」、ニッケルモールド「刻王」を提案しております。当日は、その特長や、直ぐにお試し頂ける標準モールド、さらには大面積化、R2Rへの応用などのモールドカスタマイズについても紹介致します。モールドでお困りの方は、是非ご聴講ください。

講 師

須藤 康夫
綜研化学(株)
新規事業部
営業グループ

プロフィール

2008年に綜研化学(株)入社、2010年よりナノインプリント用レプリカモールドの開発に従事し、2015年より同モールドの営業担当。